Schlagwort: Photoresists
Forscher erfinden eine neue Metallisierungsmethode für die Strukturierung von Photoresists mit modifizierter Tanninsäure
Die Bildung von Mikro-/Nano-Metallmustern ist ein wichtiger Schritt bei der Montage verschiedener Geräte. Allerdings schränkten Ex-situ-Ansätze zur Metallstrukturierung ihre industriellen Anwendungen aufgrund der geringen Stabilität und Dispersion von Metallnanopartikeln ein.…