Neu entwickelte Techniken der Atomtechnik haben aufregende Möglichkeiten eröffnet, ferroelektrisches Verhalten in High-k-Dielektrika zu ermöglichen, Materialien, die im Vergleich zu Silizium eine hohe Dielektrizitätskonstante (d. h. Kappa oder k) aufweisen. Dies könnte wiederum die Entwicklung einer fortschrittlicheren CMOS-basierten Technologie mit einem breiteren Spektrum an Funktionen oder Eigenschaften beeinflussen.
Forscher der University of Florida haben kürzlich das Potenzial atomar hergestellter Materialien auf Hafnia- und Zirkonoxidbasis für die Herstellung verschiedener Komponenten für elektronische Systeme untersucht. In einem aktuellen Naturelektronik In ihrer Arbeit stellten sie neue nanoelektromechanische Resonatoren mit breitem Spektrum vor, elektronische Komponenten, die eine Resonanzfrequenz erzeugen können, basierend auf Hafniumoxid-Zirkoniumoxid-Aluminiumoxid-Übergittern.
„Meine Forschungsgruppe war der Pionier in diesem Bereich Erforschung des atomar hergestellten ferroelektrischen Hafnia-Zirkonoxids als nanoskaliger integrierter Wandler für neue CMOS-basierte nanoelektromechanische Systemparadigmen (CMOS-NEMS) mit transformativen Auswirkungen auf die Takterzeugung, physikalische Erfassung, Spektralverarbeitung und Computeranwendungen“, sagte Roozbeh Tabrizian, der Hauptforscher, der die Studie leitete, gegenüber Phys .org. „Bei all diesen Anwendungen wird die Wirksamkeit des NEMS-Betriebs im Wesentlichen durch die Effizienz der piezoelektrischen Kopplung im Hafnia-Zirkonia-Film bestimmt.“
Hafnia-Zirkonia-Filme haben eine komplexe polykristalline Struktur, die aus Domänen mit unterschiedlichen polaren und unpolaren Morphologien besteht, die je nach elektrischen und mechanischen Randbedingungen jeweils zur elektromechanischen Kopplung beitragen. Aufgrund dieser komplizierten Struktur sind die grundlegenden physikalischen Prozesse, die der Piezoelektrizität in diesen Materialien zugrunde liegen, noch kaum verstanden, was die Verbesserung dieser Eigenschaft schwierig macht.
„Bei der gezielten Verwendung von Hafnia-Zirkonoxid-Filmen zur Herstellung von Ultra- und Superhochfrequenz-Resonatoren ist die piezoelektrische Kopplung des Films bei solch hohen Frequenzen ein Schlüsselmaß, das die Leistung festlegt und ihre Anwendbarkeit für die Herstellung von Uhren und Uhren identifiziert.“ Filter“, sagte Tabrizian. „Um diese Fragen zu beantworten, haben wir beschlossen, Experimente zu entwickeln, um die Entwicklung der piezoelektrischen Kopplung in Hafnia-Zirkonoxid während der elektrischen Abfrage aufzuklären.“
Im Rahmen ihrer jüngsten Arbeit versuchten Tabrizian und seine Kollegen, materialtechnische Ansätze zu nutzen, um die piezoelektrische Kopplung (dh einen Effekt, der eine Wechselwirkung zwischen mechanischer und elektrischer Physik mit sich bringt) in Hafnia-Zirconia-Aluminiumoxid-Übergittern zu verbessern. Schließlich nutzten sie das von ihnen entwickelte Material zur Herstellung nanoelektromechanischer Resonatoren, die in verschiedene CMOS-basierte elektronische Geräte integriert werden konnten.
„Unsere nanoelektromechanischen Hafnia-Zirconia-Aluminiumoxid-Resonatoren weisen drei einzigartige Merkmale auf“, sagte Tabrizian. „Das erste ist ihre inhärente CMOS-Kompatibilität und die Verfügbarkeit von Grundmaterialien am Front-End des CMOS-Prozesses unterstreicht ein transformatives Potenzial für deren monolithische Integration mit Festkörperschaltkreisen. Dies ermöglicht die Erstellung von Uhren, Filtern, Sensoren und mechanischen Computern.“ die um Größenordnungen höhere Leistung und Energieeffizienz aufweisen und geringere Größe und Kosten aufweisen.“
Ein zweiter Vorteil der von Tabrizian und seinen Kollegen entwickelten Resonatoren besteht darin, dass sie leicht auf super- und extrem hohe Frequenzen skaliert werden können, da die Hafnia-Zirkonoxid-Filme, auf denen sie basieren, deutlich verkleinert werden können. Bemerkenswert ist, dass die von den Forschern entwickelten Filme bei einer Verkleinerung auf wenige Nanometer ihre große piezoelektrische Kopplung beibehielten.
Infolgedessen könnten diese Filme zur Herstellung vieler verschiedener CMOS-integrierter Geräte verwendet werden, darunter Resonatoren, Uhren und Filter, die mit mehreren zehn Gigahertz arbeiten. Diese integrierten Hochfrequenz-CMOS-Systeme werden für die Entwicklung drahtloser Kommunikationstechnologien der nächsten Generation von entscheidender Bedeutung sein.
„Drittens und letztens kann die piezoelektrische Kopplung in Hafnia-Zirkonoxid durch vorübergehendes Anlegen einer Gleichspannung ein- und ausgeschaltet werden, da sie vom ferroelektrischen Verhalten profitiert“, erklärte Tabrizian. „Dies ermöglicht die Schaffung von Frequenzsteuergeräten, die intrinsisch umschaltbar sind, wodurch die Notwendigkeit externer Schalter und deren Stromverbrauch, Verluste und Platzbedarf-Overhead entfallen. Dies ist von entscheidender Bedeutung, wenn die Erweiterung des Systems auf einen Mehrfrequenz-Mehrbandbetrieb angestrebt wird, der erforderlich ist.“ agile Konfiguration innerhalb einer Reihe von Resonatoren mit unterschiedlichen Frequenzen.
Die jüngste Arbeit dieses Forscherteams erweitert das derzeitige Verständnis darüber, wie sich die piezoelektrische Kopplung in Hafnia-Zirkonoxid-Wandlern entwickelt und vom nichtlinearen quadratischen Regime in so abgeschiedenen Filmen zum linearen Regime wechselt, das zur Schaffung von Frequenzkontrollsystemen erforderlich ist. Dieses Umschalten erfolgt spontan, wenn die hergestellten Hafnia-Zirkonoxid-Filme ausreichenden elektrischen Feldzyklen ausgesetzt werden.
„Unsere Studie unterstreicht auch das Potenzial der Verwendung dünner Aluminiumoxid-Zwischenschichten im Hafnia-Zirkonia-Wandler (d. h. die Schaffung des Hafnia-Zirkonia-Aluminiumoxid-Übergitters), um die piezoelektrische Kopplung des Wandlers zu verbessern und diese Kopplung auch dann aufrechtzuerhalten, wenn die Filme vom Substrat gelöst werden „schwebende Membranen bilden“, sagte Tabrizian. „Mit diesem Wissen geben wir Aufschluss über den Herstellungsansatz für die Herstellung von Hochleistungs-Hafnia-Zirkonia-Aluminiumoxid-Resonatoren, die mit hohem Qualitätsfaktor und Kopplung bei ultra- und superhohen Frequenzen arbeiten.“
Bisher haben Tabrizian und seine Kollegen ihre Filme erfolgreich genutzt, um Hochleistungsresonatoren mit einer Abdeckung von Frequenzen zwischen 0,2 und 20 GHz zu entwickeln. In ihren nächsten Studien wollen sie jedoch das Potenzial der Filme zur Herstellung anderer elektronischer Komponenten erkunden und gleichzeitig die von ihnen erstellten Resonatoren in verschiedene Mikrosysteme integrieren und testen.
„Eine Schlüsselrichtung für unsere zukünftige Forschung wird die Integration der entwickelten nanoelektromechanischen Hafnia-Zirkonia-Aluminiumoxid-Resonatoren auf CMOS-Chips sein, um den ersten monolithischen Superhochfrequenz-CMOS-NEMS-Oszillator zu schaffen“, fügte Tabrizian hinzu. „Darüber hinaus werden wir uns auf die Erforschung von Methoden zur Temperaturstabilisierung von Hafniumoxid-Zirkoniumoxid-Aluminiumoxid-Resonatoren durch Materialtechnik konzentrieren. Dies ist für die Realisierung stabiler Oszillatoren für Anwendungen zur Takt- und Frequenzreferenzerzeugung von entscheidender Bedeutung.“
Mehr Informationen:
Troy Tharpe et al., Nanoelektromechanische Resonatoren für die Gigahertz-Frequenzsteuerung basierend auf Hafnia-Zirconia-Aluminiumoxid-Übergittern, Naturelektronik (2023). DOI: 10.1038/s41928-023-00999-9
Mayur Ghatge et al, Ein ultradünner integrierter nanoelektromechanischer Wandler auf Basis von Hafniumzirkoniumoxid, Naturelektronik (2019). DOI: 10.1038/s41928-019-0305-3
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